在近日在上海举行的ACS（美国化学学会）全球科技研讨会上，密西根学院但亚平课题组博士生高雪娇展示的题为“自组装单分子薄膜在硅中掺杂硼的缺陷态研究”（Defect Investigation of Boron-doped Silicon by Self-Assembled Molecular Monolayers）的科研海报从众多的参会者中脱颖而出，获得“最佳海报奖”。
诺贝尔化学奖获得者 William E. Moerner为高雪娇颁奖
据高雪娇介绍，自组装单分子膜掺杂是近年发展出来的新型半导体掺杂技术，具有超浅结掺杂、无物理损伤和适用于复杂的三维结构掺杂等优点。研究利用深能级瞬态谱技术对单分子膜掺杂的硅进行表征，探讨了碳对半导体性能的影响，发现对硼掺杂的硅衬底，碳只会形成少子缺陷态，对硼的激活率几乎没有影响，这表明自组装单分子膜掺杂技术有可能实现无缺陷态的、高激活率的单个硼原子掺杂，为发展单原子掺杂技术指明方向。
ACS成立于1876年，现已成为世界上最大的科技学会，会员数超过163,000人。ACS所出版的期刊有37种，内容涵盖了24个主要的化学研究领域。此次在上海举办的研讨会主题为材料科学前沿(Innovation in Materials Science)。会议邀请到国内外知名的学者以及ACS 出版集团的首席执行官和众多ACS学术期刊编辑（Nano Letters, ACS Nano, JACS等），包括2014年诺贝尔化学奖获得者William E. Moerner教授、中国科学院院士江雷教授、美国科学院院士加州大学伯克利分校的杨培东教授等。
